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VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

簡(jiǎn)要描述：VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器
聯(lián)系張經(jīng)理：I8721868549

  • 產(chǎn)品型號(hào)：PLD-T
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-12-12
  • 訪  問(wèn)  量：267

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域綜合

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國(guó)VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機(jī),PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過(guò)脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以將復(fù)雜材料和晶體結(jié)構(gòu)沉積到基板上，只需很少的設(shè)置。
脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過(guò)應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個(gè)獨(dú)立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計(jì)不會(huì)使污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料。源架的長(zhǎng)度可在 5~10 cm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

  • 轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機(jī)械手
  • 3 個(gè)熱源和特殊的饋入件
  • 用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量的石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（精度為 1 nm）
  • 直觀的觸摸屏，用于控制涂層過(guò)程和快速數(shù)據(jù)輸入
  • 等離子清洗
  • 用戶友好型軟件，可通過(guò)網(wǎng)絡(luò)更新
  • 配備旋轉(zhuǎn)樣品架
  • 配備電子快門
  • 配備機(jī)動(dòng)船選擇
  • 500 °C 基板加熱器
  • 兩年保修


VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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